[发明专利]液滴喷射装置中的流体再循环有效
申请号: | 201180063091.8 | 申请日: | 2011-12-07 |
公开(公告)号: | CN103635261B | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | P·A·霍伊辛顿;C·门策尔;M·G·奥托松;K·福内森 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B05B1/28 | 分类号: | B05B1/28 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王永建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 流体喷射设备包括在流体歧管和基底之间的流体分布层。流体分布层包括流体供应通道和流体返回通道。每个流体供应通道从流体供应室接收流体并使接收到的流体的一部分通过返回侧旁路流动返回到流体返回室。基底包括多个流动路径,每个流动路径包括用于喷射流体液滴的喷嘴。每个流动路径从对应流体供应通道接收流体,并使未喷射的流体经通道进入对应的流体返回通道。每个流体返回通道可从一个或多个流动路径和供应侧旁路收集未喷射的流体,并使收集到的流体返回到流体供应室。 | ||
搜索关键词: | 喷射 装置 中的 流体 再循环 | ||
【主权项】:
一种喷射流体液滴的设备,包括:流体歧管,包括流体供应室和流体返回室;基底,包括流动路径,所述流动路径包括用于接收流体的喷嘴入口、用于喷射流体液滴的喷嘴和用于使未喷射的流体离开的喷嘴出口;以及流体分布层,在所述流体歧管和所述基底之间,所述流体分布层包括流体供应通道和流体返回通道,所述流体供应通道具有流体地连接至所述流体供应室的供应入口和流体地连接至所述流体返回室的返回侧旁路,所述流体供应通道流体地连接至基底中的所述流动路径的所述喷嘴入口,所述流体返回通道具有流体地连接至所述流体返回室的返回出口和流体地连接至所述流体供应室的供应侧旁路,并且所述流体返回通道流体地连接至所述基底中的流动路径的所述喷嘴出口。
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