[发明专利]用于探测由辐射源发射的光子的探测装置有效
申请号: | 201180064645.6 | 申请日: | 2011-12-27 |
公开(公告)号: | CN103314307A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | C·赫尔曼;R·斯特德曼布克;O·米尔亨斯 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G01T1/17 | 分类号: | G01T1/17 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张伟;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于探测辐射源(2)发射的光子的探测装置(6)。信号发生单元(20)在光子撞击探测装置(6)的同时生成指示探测到的光子的能量的探测信号,在光子被避免撞击探测装置(6)的同时生成基线信号,所述基线信号受到先前撞击探测装置(6)的光子的影响。基线偏移确定单元(40)根据所述基线信号来确定探测信号的基线偏移。能量确定单元(30)根据所述探测信号和所确定的基线偏移来确定所探测的光子的能量。由于探测信号的基线偏移是由在光子被避免撞击检测装置(6)的同时生成的基线信号确定的,因而能够以更高的准确度确定基线偏移,从而得到改善的能量确定。 | ||
搜索关键词: | 用于 探测 辐射源 发射 光子 装置 | ||
【主权项】:
一种用于探测由辐射源(2)发射的光子的探测装置(6),所述探测装置(6)包括:‑信号发生单元(20),其用于在光子撞击所述探测装置(6)的同时生成指示所探测的光子的能量的探测信号,其中,所述信号发生单元(20)被配置为在光子被避免撞击所述探测装置(6)的同时生成基线信号,所述基线信号受到先前撞击所述探测装置(6)的光子影响,‑基线偏移确定单元(40),其用于确定所述探测信号的基线偏移,其中,所述基线偏移确定单元(40)被配置为根据所述基线信号来确定所述基线偏移,‑能量确定单元(30),其用于根据所述探测信号和所确定的基线偏移来确定所探测的光子的能量。
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