[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201180065147.3 | 申请日: | 2011-03-15 |
公开(公告)号: | CN103314134A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 织田容征;白幡孝洋;吉田章男 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C18/02 | 分类号: | C23C18/02;B05B1/04;C23C16/455 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供一种成膜装置,该成膜装置能够维持均匀薄雾向用于实施成膜的基板的喷出,且防止薄雾喷射用喷嘴周边的结构的庞大化。而且,本发明具备用于产生成为成膜原料的薄雾的薄雾产生器(2)、及将由薄雾产生器产生的薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射的薄雾喷射用喷嘴(1)。薄雾喷射用喷嘴具备:具有空心部(1H)的主体部(1A);供给薄雾的薄雾供给口(5a);将薄雾喷射到外部的喷射口(8);供给载气的载气供给口(6a);及形成有多个孔(7a)的淋浴板(7)。在此,通过淋浴板的配置,空心部被分割为与载气供给口连接的第一空间(1S)及与喷射口连接的第二空间(1T),薄雾供给口与第二空间连接。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种成膜装置,其特征在于,所述成膜装置具备:薄雾产生器(2),其用于产生成为成膜的原料的薄雾;及薄雾喷射用喷嘴(1),其将由所述薄雾产生器产生的所述薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射,所述薄雾喷射用喷嘴具备:主体部(1A),其具有空心部(1H);薄雾供给口(5a),其形成于所述主体部,并将由所述薄雾产生器产生的所述薄雾供给到所述空心部内;第一喷射口(8),其形成于所述主体部,并将所述空心部的所述薄雾向外部喷射;至少一个以上的载气供给口(6a),其形成于所述主体部,并将向所述第一喷射口运送所述薄雾的载气供给到所述空心部内;淋浴板(7),其配置在所述空心部内,且形成有多个孔(7a),通过所述淋浴板的配置,所述空心部被分割成与所述载气供给口连接的第一空间(1S)及与所述第一喷射口连接的第二空间(1T),所述薄雾供给口以与所述第二空间连接的方式形成于所述主体部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝三菱电机产业系统株式会社,未经东芝三菱电机产业系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180065147.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:阀升程调节装置
- 下一篇:一种连铸中间包挡渣坝及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理