[发明专利]包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物无效
| 申请号： | 201180066986.7 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN103354823A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 大卫·德沙泽尔;马丁·格拉斯曼;刘立志;刘南国;E·麦克奎斯顿;S·K·米利;R·施密特 | 申请（专利权）人： | 道康宁公司 |
| 主分类号： | C08G77/58 | 分类号： | C08G77/58 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 武晶晶;郑霞 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种聚杂硅氧烷组合物，所述组合物包含(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)和(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元。R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基。(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示，其中a和b各自独立地为0.001至0.9，m、d、t和q中的每一个独立地为0至0.9，前提条件是m、d、t和q不都为0，并且a+b+m+d+t+q的和≈1。(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属。所述组合物具有至少0.05%的量子产率，并用包括使(A’)金属(M3)醇盐、(B’)任选的可水解金属(M4)盐、(C’)含硅材料和(D)水反应的方法形成。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 金属 聚杂硅氧烷 组合 | ||
【主权项】：
一种聚杂硅氧烷组合物，其包含：(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)、(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元其中R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基，其中，(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示，其中，a为0.001至0.9，b为0.001至0.9，m为0至0.9，d为0至0.9，t为0至0.9，以及q为0至0.9，其中，m、d、t和q不能都为0，并且a+b+m+d+t+q的和≈1，并且其中(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属，其中所述组合物具有至少0.05%的量子产率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于道康宁公司，未经道康宁公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180066986.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
