[发明专利]多元光学元件的制造方法有效
申请号: | 201180067364.6 | 申请日: | 2011-02-11 |
公开(公告)号: | CN103354915A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 迈克尔·T·佩尔蒂埃;克里斯托弗·迈克尔·琼斯 | 申请(专利权)人: | 哈利伯顿能源服务公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 章侃铱;张浴月 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了一种光学元件的制造方法,该方法包括:选择灯光谱和带通滤波光谱;获得光谱特性向量,以量化样本中组分的浓度;以及从灯光谱、带通滤波光谱以及光谱特性向量获得目标光谱。该方法还包括:将层数选择为小于最大值;以及使用多个层的每一个的折射率和厚度执行优化历程,直到模型光谱与目标光谱之间的误差小于公差值,或者直到超过迭代的次数。如果该误差小于公差,则减少层数;以及如果超过迭代的次数,则停止进程。还提供了一种装置,该装置使用利用上述方法制造的用于基于光学的化学计量学应用的光学元件。 | ||
搜索关键词: | 多元 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学元件的制造方法,包括:选择灯光谱和带通滤波光谱;获得光谱特性向量,以量化样本中的组分的浓度;从所述灯光谱、所述带通滤波光谱以及所述光谱特性向量获得目标光谱;将待形成在所述光学元件的基板上的层数选择为小于最大层数;使用多个层的每一个的折射率和厚度执行优化历程,直到模型光谱与目标光谱之间的误差小于公差值,或者直到超过迭代的次数。如果所述误差小于所述公差,则减少所述层数;以及如果超过所述迭代的次数,则停止进程以改变所述公差值。
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