[发明专利]用于在大面积上产生纳米结构的系统和方法

摘要

一种用于向光敏层中印刷周期性特征的期望图案的方法和设备，包括步骤：提供承载所述层的衬底，提供掩膜，将衬底布置成使得其相对于衬底在与之正交的第一平面中具有倾斜角，提供用于对所述掩膜图案进行照明的基本准直光，从而在分隔开泰伯距离的泰伯平面之间产生由一范围的横向强度分布组成的透射光场，并且使得所述透射光场在第一平面中具有强度包络，用所述光对掩膜进行照明同时使衬底在平行于第一平面且平行于衬底的方向上相对于掩膜移位，其中，所述倾斜角和所述强度包络被布置成使得所述层暴露于横向强度分布的范围的平均。

主权项

一种用于向光敏层中印刷周期性特征的期望图案的方法，包括步骤：a）提供承载所述光敏层的衬底；b）提供承载周期性特征的掩膜图案的掩膜；c）接近于所述掩膜布置所述衬底，并且使得其相对于所述衬底在与之正交的第一平面中具有倾斜角；d）提供用于对所述掩膜图案进行照明的基本准直光，从而在分隔开泰伯距离的泰伯平面之间产生由一范围的横向强度分布组成的透射光场，并且使得所述透射光场在所述第一平面中具有强度包络；e）用所述光对所述掩膜进行照明，同时使所述衬底相对于所述掩膜在基本平行于所述第一平面和所述衬底二者的方向上移位，由此将所述期望图案印刷到所述光敏层中；其中，所述倾斜角和所述强度包络是相对于所述泰伯距离布置的，使得所述光敏层基本暴露于横向强度分布的范围的平均。