[发明专利]双叉式电容传感器图案有效

专利信息
申请号: 201180070734.1 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN103534673A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 马绍·巴达耶 申请(专利权)人: 赛普拉斯半导体公司
主分类号: G06F3/045 分类号: G06F3/045
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 周靖;郑霞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种电容传感器阵列的一个实施方式可包括第一组多个传感器元件以及与第一组多个传感器元件中的每一个电容耦合的第二传感器元件。该第二传感器元件可以还包括第一主要迹线和第二主要迹线,其中第一主要迹线和第二主要迹线与第一组多个传感器元件中的每一个相交,并且其中主要迹线中的每一条穿过与第二传感器元件相关联的多个单元小区中的至少一个。第二传感器元件还包括连接辅迹线,该连接辅迹线电耦合到第一主要迹线和第二主要迹线,并且在每个单元小区内部,至少一个初级辅迹线从第一主要迹线或第二主要迹线分支出来。
搜索关键词: 双叉式 电容 传感器 图案
【主权项】:
一种电容传感器阵列,包括:第一组多个传感器元件;以及第二传感器元件,其与所述第一组多个传感器元件中的每一个电容耦合,其中所述第二传感器元件包括:第一主要迹线和第二主要迹线,其中,所述第一主要迹线和所述第二主要迹线与所述第一组多个传感器元件中的每一个相交,其中所述第一主要迹线和所述第二主要迹线中的每一个穿过与所述第二传感器元件相关联的多个单元小区中的至少一个,其中所述多个单元小区中的每一个表示一组位置,这组位置比起到传感器元件之间的任何其它交叉区域的距离,更靠近所述第二传感器元件与所述第一组多个传感器元件中的相应一个之间的交叉区域,连接辅迹线,其被电耦合到所述第一主要迹线和所述第二主要迹线两者,以及在每个单元小区内的从所述第一主要迹线或所述第二主要迹线分支出来的至少一个初级辅迹线。
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