[发明专利]溅射装置与方法有效
| 申请号： | 201180073000.9 | 申请日： | 2011-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN103827347A | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | E·谢尔;O·格劳 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用以在基板上沉积沉积材料层的沉积装置。所述装置包括：基板支撑件，适于支撑基板；靶材支撑件（520），适于支撑靶材组件，所述靶材组件包括背部元件与至少两个靶材元件（510、511），所述至少两个靶材元件配置在所述背部元件上且互邻，故在所述至少两个靶材元件之间形成间隙（530）。靶材元件间的间隙具有宽度（w）。而且，基板支撑件与靶材支撑件相互配置，而使基板与靶材元件的距离（570）和间隙宽度w的比例至少约为150或以上。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用以在基板(110)上沉积沉积材料层的沉积装置，所述装置包括：基板支撑件(120)，用以支撑所述基板；靶材支撑件(125)，用以支撑一靶材组件(130；200；300；400；500)，所述靶材组件包括背部元件(131；220；320；420；520)与至少两个靶材元件(132；133；210；211；310；311；410；411；412；510；511)，所述至少两个靶材元件配置在所述背部元件上且互邻，以使间隙(230；330；430；530)形成于所述至少两个靶材元件之间，所述间隙具有宽度w，其中，所述基板支撑件(120)与所述靶材支撑件(125)相对于彼此配置，使得所述基板与所述靶材元件间的距离(470；570)和所述间隙宽度w的比例至少约为150。
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