[发明专利]电子部件及其制造方法有效
| 申请号： | 201180074343.7 | 申请日： | 2011-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103890932B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 岛内岳明 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/02 | 分类号： | H01L23/02;B23K1/00;B81B3/00;B81C3/00;H03H9/02 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 金相允,向勇 |
| 地址： | 日本国神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电子部件，其具有衬底；元件，其形成在上述衬底上；侧壁构件，其在上述衬底上包围上述元件；盖构件，其配设在上述侧壁构件上，与上述侧壁构件一起在上述衬底上划分出包围上述元件的空间；密封构件，其设置在上述侧壁构件的外侧，将上述侧壁构件及盖构件与上述衬底的表面接合，并密封上述空间。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种电子部件，其特征在于，具有：衬底；元件，其形成在上述衬底上；侧壁构件，其在上述衬底上包围上述元件；盖构件，其配设在上述侧壁构件上，与上述侧壁构件一起在上述衬底上划分出包围上述元件的空间；密封构件，其设置在上述侧壁构件的外侧，将上述侧壁构件及盖构件与上述衬底的表面接合，并密封上述空间，上述盖构件为平板状的构件，接合在上述侧壁构件上，在上述盖构件上形成有具有与上述衬底的外周形状一致的外周的屏蔽构件，由位于从形成上述屏蔽构件的外周的侧壁面起后退的位置上的上述盖构件的侧壁面来形成上述盖构件的外周，形成上述侧壁构件的外周的侧壁面形成在特定位置，从而形成阶梯部，上述阶梯部由上述密封构件填充，上述特定位置是指，比形成上述屏蔽构件的外周的侧壁面以及形成上述盖构件的外周的侧壁面中的任一个侧壁面都后退的位置。
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