[发明专利]用于处理成批的衬底的原子层沉积反应器及其方法在审
| 申请号： | 201180075016.3 | 申请日： | 2011-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103946418A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | S·林德弗斯;P·J·苏瓦尼南 | 申请（专利权）人： | 皮考逊公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及一种方法，包括：提供原子层沉积反应器的反应室模块，反应室模块用于通过原子层沉积工艺处理成批的衬底；并且经由与在处理之后卸载成批的衬底不同的路径，在处理之前将成批的衬底装载到反应室模块中。本发明还涉及一种对应的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 成批 衬底 原子 沉积 反应器 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：提供原子层沉积反应器的反应室模块，所述反应室模块用于通过原子层沉积工艺处理成批的衬底；以及经由与在处理之后卸载所述成批的衬底不同的路径，在处理之前将所述成批的衬底装载到所述反应室模块中。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
