[发明专利]用于电解蚀刻铜的蚀刻设备有效
申请号: | 201180075364.0 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN103975096A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 克里斯托夫·赫克里 | 申请(专利权)人: | 克里斯托夫·赫克里 |
主分类号: | C25F7/02 | 分类号: | C25F7/02;C23F1/46 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 刘莉婕 |
地址: | 德国施瓦*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及用于在蚀刻材料上电解蚀刻铜的蚀刻设备,包括第一混合设备,其被设计成接收包含铜离子的酸性电解质和氧气或臭氧气体,以便形成第一液体-气体混合物,该混合物可从所述第一混合设备的第一出口被引导进入与其耦合的连接线路;容器,其含有容器液体;第二混合设备,其被布置在所述容器内并且被所述容器液体环绕,其中所述第二混合设备具有抽吸孔口以便抽吸存在于所述抽吸孔口的区域中的所述容器液体,其中所述第二混合设备被连接至所述连接线路并被设计成将所述第一液体/气体混合物和所抽吸的所述容器液体引导至所述第二混合设备的收缩区中,使得所抽吸的所述容器液体能够与所述第一液体/气体混合物混合并由此形成第二液体/气体混合物,其中所述第二混合设备具有第二出口,所述第二液体/气体混合物能够通过所述第二出口流出并与存在于所述第二出口的区域中的所述容器液体混合;以及容器出口线路,其被设计成将其中存在的所述容器液体供应至设置在蚀刻模块中的所述蚀刻材料。 | ||
搜索关键词: | 用于 电解 蚀刻 设备 | ||
【主权项】:
一种用于在蚀刻材料上电解蚀刻铜的蚀刻设备,包括:‑第一混合设备,其被设置成接收包含铜离子的酸性电解质和氧气或臭氧气体,以便形成第一液体/气体混合物,所述第一液体/气体混合物能够被传输离开所述第一混合设备的第一出口进入与其耦合的连接线路,‑容器,其容纳容器液体,‑第二混合设备,其被布置在所述容器内并且被所述容器液体环绕,所述第二混合设备具有抽吸孔口以便抽吸存在于所述抽吸孔口的区域中的所述容器液体,并且所述第二混合设备被连接至所述连接线路并被设置成将所述第一液体/气体混合物和所抽吸的所述容器液体传输至所述第二混合设备的收缩区中,使得所抽吸的所述容器液体能够与所述第一液体/气体混合物混合并由此形成第二液体/气体混合物,并且所述第二混合设备具有第二出口,所述第二液体/气体混合物能够通过所述第二出口流出并与存在于所述第二出口的区域中的所述容器液体混合,以及‑容器出口线路,其被设置成将其中存在的所述容器液体供应至设置在蚀刻模块中的所述蚀刻材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克里斯托夫·赫克里,未经克里斯托夫·赫克里许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180075364.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。