[发明专利]制备CMP组合物的方法及其应用有效
| 申请号： | 201180075378.2 | 申请日： | 2011-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN103975001B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | S·S·文卡塔拉曼;E·Y-S·苏 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C08J5/14 | 分类号： | C08J5/14;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 肖威,刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种制造半导体器件的方法，其包括在化学机械抛光(CMP)组合物存在下化学机械抛光硼磷硅酸盐玻璃(BPSG)材料，所述组合物包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，(B)至少一种作为分散剂或电荷反转剂的阴离子磷酸盐或膦酸盐，(C)至少一种表面活性剂，和(D)水性介质。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 cmp 组合 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种制造半导体器件的方法，其包括在化学机械抛光(CMP)组合物存在下化学机械抛光包含硼磷硅酸盐玻璃(BPSG)材料和原硅酸四乙酯(TEOS)的基材，所述组合物包含：(A)其量占所述CMP组合物重量的0.05‑1.5重量％的具有通过动态光散射测得为50‑250nm平均粒度的二氧化铈颗粒，(B)其量占所述CMP组合物重量的2‑150ppm的作为分散剂或电荷反转剂的水溶性缩合磷酸盐，(C)其量占所述CMP组合物重量的50‑5000ppm的水溶性聚合物表面活性剂，其为乙二胺的氧化乙烯/氧化丙烯共聚物，和(D)水性介质，其中所述CMP组合物的pH值为4‑10，并且硼磷硅酸盐玻璃(BPSG)对原硅酸四乙酯(TEOS)的选择性小于1:1。
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