[发明专利]形成离型层的方法有效

专利信息
申请号: 201180075415.X 申请日: 2011-10-27
公开(公告)号: CN104136510B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 梅里·苏瓦拉;叶夫吉尼亚·鲁杜瓦;雷吉娜·古斯利策;拉亚·斯利夫尼亚克;奥什拉·拉维夫 申请(专利权)人: 惠普深蓝有限责任公司
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;G03G15/16
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;王珍仙
地址: 荷兰阿姆*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种在基材上形成硅酮离型层的方法,其用于数字胶印系统的中间转印构件,该方法包括:a)在该基材上提供可固化的第一底漆;b)在该基材上提供可固化的第二底漆;c)在该可固化的第一底漆和第二底漆上提供可固化的硅酮离型组合物;以及d)固化该第一底漆、第二底漆和离型组合物。
搜索关键词: 形成 离型层 方法
【主权项】:
一种在基材(152)上形成硅酮离型层(156)的方法,所述方法用于数字胶印系统的中间转印构件,所述方法包括:a)在所述基材上提供可固化的第一底漆;b)在所述基材上提供可固化的第二底漆;c)在所述可固化的第一底漆和第二底漆上提供可固化的硅酮离型制剂;以及d)固化所述第一底漆、所述第二底漆和所述离型制剂,其中,所述第一底漆包含第一催化剂,且所述第二底漆包含第二催化剂;所述第一底漆通过缩合反应可固化,且所述第二底漆通过加成反应可固化;并且所述第二催化剂不同于所述第一催化剂。
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