[发明专利]喷嘴芯片的制造方法有效
| 申请号： | 201180075533.0 | 申请日： | 2011-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103998245A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 真锅贵信;黑须敏明;渡边诚;藤井谦儿;田川义则;浅井和宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/135 | 分类号： | B41J2/135 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 芯片 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。
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