[发明专利]具有包含不同材料取向或组成的纳米线或半导体主体的共衬底半导体器件有效
申请号: | 201180075728.5 | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN103999200A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | A·卡佩拉尼;P·G·托尔钦斯基;K·J·库恩;G·A·格拉斯;V·H·勒 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L29/78 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张伟;王英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了具有纳米线或半导体主体的共衬底半导体器件和用于形成这种共衬底器件的方法,其中所述纳米线或半导体主体具有不同材料取向或组成。例如,半导体结构包括具有设置于结晶衬底之上的第一纳米线或半导体主体的第一半导体器件。所述第一纳米线或半导体主体由具有第一全局晶体取向的半导体材料组成。所述半导体结构还包括具有设置于所述结晶衬底之上的第二纳米线或半导体主体的第二半导体器件。所述第二纳米线或半导体主体由具有不同于所述第一全局取向的第二全局晶体取向的半导体材料组成。所述第二纳米线或半导体主体通过设置于所述第二纳米线或半导体主体与所述结晶衬底之间的隔离基座与所述结晶衬底隔离。 | ||
搜索关键词: | 具有 包含 不同 材料 取向 组成 纳米 半导体 主体 衬底 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体结构,包括:第一半导体器件,其包括设置于结晶衬底之上的第一纳米线,所述第一纳米线包括具有第一全局晶体取向的半导体材料;以及第二半导体器件,其包括设置于所述结晶衬底之上的第二纳米线,所述第二纳米线包括具有第二全局晶体取向的半导体材料,所述第二全局晶体取向不同于所述第一全局取向,并且所述第二纳米线通过设置于所述第二纳米线与所述结晶衬底之间的隔离基座与所述结晶衬底隔离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180075728.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于量子点材料的类SED结构
- 下一篇:一种耐用电子枪灯丝
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造