[发明专利]一种用于离轴R-C系统光谱反射率的测量方法

摘要

一种用于离轴R-C系统光谱反射率的测量方法，是基于一种测量光学系统实现的，该系统包括氙灯、透镜、被测R-C系统、辅助平面镜、积分球、光谱仪及计算机。首先，调整测量光学系统中的各器件至第一测量光路所需位置，使氙灯发出的光经透镜、被测R-C系统、辅助平面镜后返回至被测R-C系统及积分球，通过计算机控制光谱仪探测积分球出口处的光谱辐照度。其次，调整各器件至第二测量光路所需位置，使氙灯发出的光经透镜、辅助平面镜后进入积分球，通过计算机控制光谱仪探测积分球出口处的光谱辐照度。最后，将两次所测得的光谱辐照度相比并开平方即为被测R-C系统的光谱反射率。该测量方法测量所覆盖的光学元件表面大，测量环节少，测量精度高。

主权项

一种用于离轴R‑C系统光谱反射率的测量方法，该方法是基于一种测量光学系统实现的，该测量光学系统包括氙灯(1)、可调光阑(2)、透镜(3)、被测离轴R‑C系统、辅助平面镜(6)、积分球(7)、光谱仪(8)及计算机(9)，其中所述的被测离轴R‑C系统由次镜(4)和主镜(5)组成，该方法包括如下步骤：步骤1、通过调整测量光学系统中的各光学器件的位置构成第一测量光路：将氙灯(1)和可调光阑(2)构成的点光源置于透镜(3)的物方二倍焦距处，点光源经过透镜(3)形成的像点落在被测离轴R‑C系统的物方焦平面上，使得经过离轴R‑C系统后的出射光线变为平行光；辅助平面镜(6)置于离轴R‑C系统主镜(5)正前方并与光轴垂直，将离轴R‑C系统出射的平行光沿着与光轴对称的方向全部反射回到离轴R‑C系统，反射回的平行光经离轴R‑C系统后会聚到该系统的焦平面上使得点光源二次成像，点光源二次成像的位置与一次成像的位置成光轴对称；积分球(7)的收光口置于点光源的二次成像位置，使得会聚光束全部进入积分球(7)，此时通过计算机(9)控制光谱仪(8)探测到积分球(7)出口处的光谱辐照度为E1(λ)；步骤2、通过调整测量光学系统中的各光学器件的位置构成第二测量光路：将氙灯(1)和可调光阑(2)构成的点光源仍置于透镜(3)的物方二倍焦距处，辅助平面镜(6)置于透镜(3)像方二倍焦距以内，积分球(7)的收光口置于点光源的一次成像位置，使得通过透镜(3)的会聚光束全部进入积分球(7)，此时通过计算机(9)控制光谱仪(8)探测到积分球(7)出口处的光谱辐照 度为E2(λ)；步骤3、得到由次镜(4)和主镜(5)构成的被测离轴R‑C系统的光谱反射率： ρ ( λ ) = E 1 ( λ ) E 2 ( λ ) .