[发明专利]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 201210001945.6 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN103194733A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种原子层沉积设备,尤其是涉及一种使用集显示和控制于一体的嵌入式控制单元作为控制系统主控部件的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备,包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,主控部件分别与电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件连接,电气控制部件分别与真空部件、加热部件和气路部件连接,主控部件为集显示与控制于一体的控制设备。本发明采用集显示和控制于一体的主控部件代替传统的显示器+工控机+PLC(或控制板卡)的控制架构,使得设备结构简洁清晰、占用体积小、组装和维护简单方便、可靠性高,能够有效防止设备运行中意外事故的发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种原子层沉积设备,其特征在于:包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,所述主控部件分别与所述电气控制部件、所述真空部件、所述加热部件和所述气路部件连接,所述电气控制部件分别与所述真空部件、所述加热部件和所述气路部件连接,所述主控部件为集显示与控制于一体的控制设备。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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