[发明专利]聚焦环和具有该聚焦环的基板处理装置有效
| 申请号： | 201210003658.9 | 申请日： | 2012-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN102592936A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 山涌纯;輿水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够防止在温度差大的两个部件的缝隙中堆积物附着到低温的部件的聚焦环。聚焦环(25)包围配置于基板处理装置(10)的腔室(11)内的晶片(W)的边缘，内侧聚焦环(25a)和外侧聚焦环(25b)构成聚焦环(25)，内侧聚焦环(25a)与晶片(W)邻接地配置且被冷却，外侧聚焦环(25b)包围内侧聚焦环(25a)且不被冷却，块部件(25c)配置于内侧聚焦环(25a)和外侧聚焦环(25b)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 具有 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种聚焦环，其包围配置于基板处理装置的处理室内的基板的边缘，该聚焦环的特征在于，包括：与所述基板邻接地配置且被冷却的内侧聚焦环；包围该内侧聚焦环且不被冷却的外侧聚焦环；和配置于所述内侧聚焦环和所述外侧聚焦环的缝隙的石英部件。
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