[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201210008798.5 | 申请日： | 2012-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN102621807A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 熊田信次;前盛谕;新井雅俊;盐野大寿 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1] |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)；相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份，[化1]![]()
式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基；R1为具有1个以上的伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。
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