[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210010399.2 | 申请日： | 2007-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN102495539A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | M·维克曼斯;M·A·W·崔帕斯;F·E·德琼格;E·A·M·范冈佩尔;R·詹森;G·A·A·M·库斯特斯;T·P·M·卡迪;M·F·P·斯米茨;F·范德穆伦;W·F·J·西蒙斯;M·H·A·利恩德斯;J·J·奥坦斯;M·范巴伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备包括配置成通过调节流体而调节物体的温度的调节系统，所述物体是基底台、掩模台或用于基底台的承载，其中调节系统包括压力阻尼器，所述压力阻尼器与调节系统流体连通并且布置成抑制调节系统内由于物体的加速引起的物体外侧的调节流体压力变化。
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