[发明专利]用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法及光刻曝光系统有效
| 申请号： | 201210013381.8 | 申请日： | 2012-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103207528A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 施忞;阎江;杨志勇;白昂力;孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，包括：指定多个掩模版和投影物镜的光瞳，获得多种照明光源图像，建立该多种照明光源主成分和空间像之间的关系；在该指定中选择一组掩模版和光瞳，对其名义光源进行主成分分析，获得各个主成分的名义权重，结合该多种照明光源主成分和空间像之间的关系利用查表算法和线性回归算法计算出该各个主成分的目标权重，从而获得光源参数设置变化量和光源内部可动元件调整量。本发明同时公开一种用于补偿光刻成像质量的光刻曝光系统。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 补偿 光刻 成像 质量 修正 方法 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，包括：指定多个掩模版和投影物镜的光瞳，获得多种照明光源图像，建立所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系；在所述指定中选择一组掩模版和光瞳，对其名义光源进行主成分分析，获得各个主成分的名义权重，结合所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系，利用查表算法和线性回归算法计算出所述各个主成分的目标权重，从而获得光源参数设置变化量和光源内部可动元件调整量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210013381.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
