[发明专利]一种降低光刻机镜头过热的方法无效
| 申请号： | 201210014810.3 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN102540763A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 魏芳;阚欢 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/70 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降低光刻机镜头过热的方法，包括如下步骤，在距有效器件距离大于或者等于D的条件下，计算透光区域面积占整个曝光单元面积的比例A，并依据所述A的比例关系在距有效器件的距离大于或者等于D的空旷区域添加冗余图形。本发明的有益效果在于：减少了光刻机镜头吸收的能量，降低了连续曝光后镜头升高的温度，从而实现了对因光刻机镜头过热而导致曝光图形在硅片上的位置偏移的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 光刻 镜头 过热 方法 | ||
【主权项】：
一种降低光刻机镜头过热的方法，其特征在于，包括如下步骤，先计算透光区域面积占整个曝光单元面积的比例A，然后依据所述A的比例关系在距有效器件的距离大于或者等于D的空旷区域添加冗余图形。
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