[发明专利]吸附台无效

专利信息
申请号: 201210015592.5 申请日: 2012-01-18
公开(公告)号: CN102608872A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 吉田茂;落合亮 申请(专利权)人: 株式会社拓普康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/683
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 日本国东京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种吸附台,不会导致作业时间的增大和产品精度的降低,而能够以平坦的状态保持工件。吸附台(40),使工件(22)保持在平坦的载放面(40b)上,在该工件(22)上曝光光被成像而使既定的掩模图形曝光,其中,包括:固定吸附机构(60),可吸附工件(22)而使工件(22)相对载放面(40b)的姿态固定;平面吸附机构(70),可吸附工件(22)而与载放面(40b)面抵接,平面吸附机构(70)具有多个在载放面(40b)上开设的平面吸附孔(71),从载放面(40b)上的任意一点到载放面(40b)的外缘,按照顺序进行利用各平面吸附孔(71)的吸附动作。
搜索关键词: 吸附
【主权项】:
一种吸附台,使工件保持在平坦的载放面上,在该工件上曝光光被成像而使既定的掩模图形曝光,其特征在于,包括:固定吸附机构,可吸附所述工件而使所述工件相对所述载放面的姿态固定,平面吸附机构,可吸附所述工件而使所述工件的面与所述载放面抵接,所述平面吸附机构具有多个在所述载放面上开设的平面吸附孔,从所述载放面上的任意一点起朝向所述载放面的外缘,按顺序进行利用所述平面吸附孔的吸附动作。
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