[发明专利]低温真空镀膜装置无效
| 申请号： | 201210018196.8 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102534506A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 史旭 | 申请（专利权）人： | 纳峰真空镀膜（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 罗习群;刘莹 |
| 地址： | 201700 上海市青浦区青*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种低温真空镀膜装置，该装置一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接，真空镀膜腔体设有分子真空泵，并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体温度低于800C，被镀工件塑料制品，或橡胶制品放置于真空镀膜腔体内，用过滤阴极离子真空镀膜源对其镀膜，膜源的粒子方向能调整，可从不同角度对准被镀工件进行镀膜。本发明的优点是，被镀工件即使在小于800C温度条件下，仍有足够的镀层厚度，而且耐磨、耐腐蚀，并且能够镀制小型、细薄的塑料制品而不使产品变形，特别适用于某些精细加工行业。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种低温真空镀膜装置，其特征在于，一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接，真空镀膜腔体设有分子真空泵，并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体温度低于800C，被镀工件放置于真空镀膜腔体内，用过滤阴极离子真空镀膜源从不同的角度对被镀工件进行镀膜。
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