[发明专利]连续真空镀膜装置无效
| 申请号： | 201210018206.8 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102560408A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 史旭 | 申请（专利权）人： | 纳峰真空镀膜（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 罗习群;刘莹 |
| 地址： | 201700 上海市青浦区青*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种连续真空镀膜装置，该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。优点在于，可长时间连续镀膜，延长了设备维护周期，一次能够镀多个镀件，生产效率提高许多倍。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种连续真空镀膜装置，其特征在于：该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。
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