[发明专利]具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续腔体制程设备有效
| 申请号： | 201210018827.6 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN103219214A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 李文杰 | 申请（专利权）人： | 李文杰 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 钱凯 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续腔体制程设备，该设备上有一腔体，适用等离子体制程，该腔体包括以下组件：电极、基材载具、传动装置，该电极可放置于两个位置，其第一位置使电极与基材载具电性脱离，其第二位置使电极与基材载具电性接合。本发明具有降低流入基材瞬间电流的功能，且能够控制等离子体加诸于基材上的偏压，因此能保护基材表面，特别适合作为干蚀刻制程之用。其它非使用等离子体作为干蚀刻制程的用者(如PECVD，等离子体辅助化学蒸气蒸镀)，或使用等离子体但不是作镀膜使用(如等离子体清洁，plasma clean)等，亦可应用本发明，使其同时具备高效率的等离子体辅助制程与其它的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 控制 基材 等离子体 偏压 能力 连续 体制 设备 | ||
【主权项】：
一种具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，该设备上有一腔体，适用该等离子体制程，该腔体尚包括以下组件：电极、基材载具、传动装置，该电极可放置于两个位置，其第一位置使该电极与基材载具电性脱离，其第二位置使该电极与基材载具电性接合。
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