[发明专利]一种用于放电等离子体极紫外光刻光源的介质及其应用系统无效
| 申请号： | 201210026159.1 | 申请日： | 2012-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN102543630A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 赵永蓬;徐强;王骐 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | H01J17/20 | 分类号： | H01J17/20;H01J17/04;G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 韩末洙 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种用于放电等离子体极紫外光刻光源的介质及其应用系统，它涉及放电等离子体光源的介质及其应用系统。本发明要解决现有放电等离子体EUV光源采用Xe介质导致其辐射光功率过低和稳定性差以及现有放电等离子体EUV光源系统不能调控不同气体流量的问题。本发明的介质是体积流量比为(0.2～2)∶(1～20)∶(1～20)的Xe气、He气和Ar气的混合气，其应用系统由Xe气瓶、He气瓶、Ar气瓶、Xe气气体流量计、He气气体流量计、Ar气气体流量计、毛细管、电极和高压脉冲电源组成。本发明将13.5nm辐射光输出功率提高2％，同时提高了气体击穿性能和辐射光输出功率稳定性。本发明用于放电等离子体极紫外光刻光源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 放电 等离子体 紫外 光刻 光源 介质 及其 应用 系统 | ||
【主权项】：
一种用于放电等离子体极紫外光刻光源的介质，其特征在于用于放电等离子体极紫外光刻光源的介质是Xe气、He气和Ar气的混合气，所述Xe气、He气和Ar气的体积流量比为(0.2～2)∶(1～20)∶(1～20)。
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