[发明专利]低温磁瓷共烧复合基材及制备方法无效

专利信息
申请号: 201210030888.4 申请日: 2012-02-13
公开(公告)号: CN102582143A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 王永明;廖杨;王升;韩志全;冯涛;陈劲松;张菊艳 申请(专利权)人: 西南应用磁学研究所
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C04B35/622
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 胡吉科
地址: 621000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及低温磁瓷共烧复合基材和微波领域,特别涉及一种低温磁瓷共烧复合基材,包括介质层,其由介质粉料加入流延载体经制浆流延而成;磁性层,其由铁氧体材料加入流延载体制浆流延而成;以及过渡层,其由介质粉料以及铁氧体材料加入流延载体制浆流延而成;所述介质层、磁性层以及过渡层进行共烧;所述过渡层位于所述介质层和磁性层之间;所述介质层为外层;同时也提供了一种低温磁瓷共烧复合基材的制备方法。本发明的有益效果是:通过采用低温烧结微波铁氧体复合基板的TR组件,重量可减轻50-60%,体积可减小50~70%;有利于组件的低成本、批量化生产;同时提高了产品的稳定性和可靠性。
搜索关键词: 低温 磁瓷共烧 复合 基材 制备 方法
【主权项】:
一种低温磁瓷共烧复合基材,其特征在于:包括介质层,其由介质粉料加入流延载体经制浆流延而成;磁性层,其由铁氧体材料加入流延载体制浆流延而成;以及过渡层,其由介质粉料以及铁氧体材料加入流延载体制浆流延而成;所述介质层、磁性层以及过渡层进行共烧;所述过渡层位于所述介质层和磁性层之间;所述介质层为外层。
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