[发明专利]压印光刻有效
| 申请号： | 201210036224.9 | 申请日： | 2005-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540708A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | K·西蒙 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C59/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 压印光刻,在实施例中公开了一种压印方法，包括将衬底上的可压印媒介的第一和第二间隔目标区分别与第一和第二模板接触，以在媒介中形成相应的第一和第二压印，以及将第一和第二模板与被压印媒介分离。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 | ||
【主权项】：
一种压印设备，包括多个压印模板支架，配置成彼此平行地操作。
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