[发明专利]光刻设备和光刻投影方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备和光刻投影方法。该光刻设备包括：照射系统；支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台；和投影系统，其中第一和第二支撑结构在扫描方向上可以在沿扫描方向的至少为第二或第一图案形成装置的长度的扫描距离上移动，其中第一和第二支撑结构在第二方向上可以在沿第二方向的至少为第二或第一图案形成装置的宽度的距离上移动，其中第二方向大体垂直于扫描方向，以及光刻设备通过第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；构造成支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和构造成支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，所述第一图案形成装置和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台，构造成保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中所述第一支撑结构和第二支撑结构在扫描方向上能够在沿所述扫描方向的至少为第二图案形成装置或第一图案形成装置的长度的扫描距离上移动，其中所述第一支撑结构和第二支撑结构在第二方向上能够在沿所述第二方向的至少为第二图案形成装置或第一图案形成装置的宽度的距离上移动，其中所述第二方向大体垂直于扫描方向，其中所述光刻设备构造成通过所述第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准，和其中所述第一支撑结构和第二支撑结构包括单个致动器、致动器组和/或致动器实体，以在所述第二方向上同时地移动第一支撑结构和第二支撑结构。