[发明专利]发光装置结构有效
| 申请号： | 201210037085.1 | 申请日： | 2012-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN102903811A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 黄羽民;吴国祯;李君圣 | 申请（专利权）人： | 广镓光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/10 | 分类号： | H01L33/10 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人： | 刘云贵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种发光装置，其特征在于包括一基底；一外延结构，设置于基底上，外延结构至少包括第一导电型半导体层、活性发光层和第二导电型半导体层；一第一电极，设置于第一导电型半导体层上；一透明导电层，位于第一电极和第一导电型半导体层间；以及一三维立体分布式布拉格反射层，位于所述透明导电层和所述第一导电型半导体层间。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 结构 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其特征在于包括：一基底；一外延结构，设置于所述的基底上，所述外延结构至少包括第一导电型半导体层、活性发光层和第二导电型半导体层；一第一电极，设置于所述第一导电型半导体层上；一透明导电层，位于所述第一电极和所述第一导电型半导体层间；以及一三维立体分布式布拉格反射层，位于所述透明导电层和所述第一导电型半导体层间。
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