[发明专利]具有抗反射涂层的基板和用于制造该基板的方法有效
| 申请号： | 201210042892.2 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102649327A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 克里斯蒂安·亨;托尔斯滕·达姆 | 申请（专利权）人： | 肖特公开股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;C03C17/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨靖;车文 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及具有抗反射涂层的基板和用于制造该基板的方法。本发明基于如下任务，即：改善防反光层的抗磨损强度。为此，设置有经涂层的基板，该基板-在至少一侧上具有多层式的抗反射涂层(5)，该抗反射涂层(5)-由具有不同折射率的层来构造，其中，具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替，其中，-具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造，在这些具有较低折射率的层中-铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08，但硅的材料量相对于铝的材料量占优势，并且其中，-具有较高折射率的层包含硅化物、氧化物或者氮化物。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 涂层 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
经涂层的基板(3)，所述基板(3)‑在至少一侧上具有多层式的抗反射涂层(5)，所述抗反射涂层(5)‑由具有不同折射率的层来构造，其中，具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替，其中，‑所述具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造，在所述具有较低折射率的层中‑铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08，但硅的材料量相对于铝的材料量占优势，并且其中，‑所述具有较高折射率的层包含硅化物、氧化物或者氮化物。
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