[发明专利]滚动光敏印章结构有效

专利信息
申请号: 201210043622.3 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN102616028A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 谢万彬;马宗涛;补建;罗安;周聪俊 申请(专利权)人: 成都三泰电子实业股份有限公司
主分类号: B41K1/22 分类号: B41K1/22
代理公司: 成都虹桥专利事务所 51124 代理人: 何强
地址: 610091 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种滚动光敏印章结构,具有可防止印章图案发生变形的特点。该滚动光敏印章结构,包括半圆柱形的基体,在基体的半圆柱面上设置有印章层,所述印章层采用光敏材料制作,在印章层与基体之间设置有软质材料制作的第一储油材料层,在第一储油材料层与印章层之间设置有支撑架层,所述支撑架层上设置有多个通孔。由于在第一储油材料层与印章层之间设置有支撑架层,从而可以为印章层提供有力的支撑,可有效防止盖章过程中印章图案变形,支撑架层上设置的通孔可以使第一储油材料层经通孔向印章层提供印油,尤其适合在滚动印章结构上推广使用。
搜索关键词: 滚动 光敏 印章 结构
【主权项】:
滚动光敏印章结构,包括半圆柱形的基体(1),在基体(1)的半圆柱面上设置有印章层(2),其特征是:所述印章层(2)采用光敏材料制作,在印章层(2)与基体(1)之间设置有软质材料制作的第一储油材料层(4),在第一储油材料层(4)与印章层(2)之间设置有支撑架层(3),所述支撑架层(3)上设置有多个通孔。
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