[发明专利]提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备在审
| 申请号： | 201210045385.4 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN102580941A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王毅博 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;F26B5/08 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法，包括以下步骤：提供一清洗台，将晶圆水平放置于所述清洗台上；将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方，所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向；晶圆启动水平自转，所述清洗喷头启动水平移动；开始清洗过程，所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面，所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止；结束清洗，所述清洗喷头停止供应清洗液，所述晶圆继续水平自转，以甩干所述晶圆。本发明还提供了一种清洗甩干设备。本发明能够极大地提高晶圆清洁度，减少液体杂质及颗粒杂质的残留问题，对设备的改进简单易行，成本低廉，在提高晶圆产品的性能、成品率和可靠性的同时节约了工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 清洁 清洗 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法，包括：提供一清洗台，将晶圆水平放置于所述清洗台上；将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方，所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向；晶圆启动水平自转，所述清洗喷头启动水平移动；开始清洗过程，所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面，所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止；结束清洗，所述清洗喷头停止供应清洗液，所述晶圆继续水平自转，以甩干所述晶圆。
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