[发明专利]一种大面积纳米压印光刻的装置和方法

摘要

本发明公开了一种大面积纳米压印光刻的装置和方法。它引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具，压印过程采用“气体辅助施压”和模具微进给“压力施压”方式；脱模基于氟聚合物基极低表面能，并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法，采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在各种衬底包括非平整（弯曲、翘曲或者台阶）或曲面或者易碎衬底上制造大面积微纳米结构，具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低、模具寿命长的显著优势，适用于LED纳米图形化技术、光学器件（如光学透镜）、蝶式太阳能聚光器、微流控器件等器件的制造。

主权项

一种大面积纳米压印光刻的装置，其特征是，它包括：工作台、衬底、液态有机聚合物、模板、气阀板，气腔室、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路；其中，涂铺有液态有机聚合物的整片衬底固定于工作台之上；模板通过真空管路吸附在气阀板的底面，气阀板固定在气腔室的底面，紫外光光源固定在气腔室的顶面；压印机构与气腔室相连；压力管路与气腔室的进气口相连；所述模板为氟聚合物基薄膜结构复合软模具，它包括支撑层和特征结构层，其中支撑层具有透明、高度柔性和薄膜结构的特性，特征结构层具有低的表面能、高弹性模量和透明的特性，在特征层设有纳米结构腔。