[发明专利]侧面粗化的发光二极管及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210052920.9 申请日: 2012-03-02
公开(公告)号: CN102593301A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 谢海忠;张逸韵;王兵;杨华;李璟;伊晓燕;王军喜;王国宏;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种侧面粗化的发光二极管,包括:一衬底,该衬底的侧面经粗化处理;一成核层,其制作在侧面粗化的衬底上;一N型掺杂层,其制作在成核层上,该N型掺杂层有一台面;一多量子阱发光层,其制作在N型掺杂层台面的另一侧上,该多量子阱发光层为10个周期交替生长的氮化镓/铟镓氮;一P型掺杂层,其制作在多量子阱发光层上;一ITO层,其制作在P型掺杂层上;一P型金属电极,其制作在ITO层上;一N型金属电极,其制作在掺杂层的台面上。本发明可以提高出光效率,使得发光二极管外量子效率提升,特别适合大尺寸功率型晶粒的制作。
搜索关键词: 侧面 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
一种侧面粗化的发光二极管,包括:一衬底,该衬底的侧面经粗化处理,粗化处理后的衬底侧面为三角形、菱形、圆形或多边形;一成核层,其制作在侧面粗化的衬底上;一N型掺杂层,其制作在成核层上,该N型掺杂层有一台面;一多量子阱发光层,其制作在N型掺杂层台面的另一侧上,该多量子阱发光层为10个周期交替生长的氮化镓/铟镓氮;一P型掺杂层,其制作在多量子阱发光层上;一ITO层,其制作在P型掺杂层上;一P型金属电极,其制作在ITO层上;一N型金属电极,其制作在掺杂层的台面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210052920.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top