[发明专利]一种间接合成石英玻璃的方法及其专用设备以及一种石英玻璃有效
| 申请号： | 201210053634.4 | 申请日： | 2012-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102583977A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 聂兰舰;宋学富;向在奎;隋梅;王玉芬 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院 |
| 主分类号： | C03B20/00 | 分类号： | C03B20/00;C01B33/12 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 鲁兵 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明一种间接合成石英玻璃的方法及其专用设备以及一种石英玻璃，属于玻璃制造领域。该方法包括：1)将四氯化硅原料气在600-1200℃的氢氧火焰中反应，使四氯化硅水解或氧化生成纳米二氧化硅微粒，纳米二氧化硅微粒再经沉积形成二氧化硅疏松体；2)将二氧化硅疏松体在100-1600℃和0.01-500Pa真空度下经脱水、脱气及玻璃化后，得到石英玻璃。本方法沉积速率可达500-2000g/h，得到石英玻璃具有以下优良特性：200-3200nm全光谱(紫外-可见-红外波段)透过率较高，金属杂质含量小于5ppm，羟基含量可控制在20ppm以内，直径可达50-200mm，能够应用于精密光学、半导体光刻技术和激光技术等高新技术领域，应用前景广阔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 间接 合成 石英玻璃 方法 及其 专用设备 以及 | ||
【主权项】：
一种间接合成石英玻璃的方法，包括以下步骤：1)将四氯化硅原料气在600‑1200℃的氢氧火焰中反应，使四氯化硅水解或氧化生成纳米二氧化硅微粒，纳米二氧化硅微粒再经沉积形成二氧化硅疏松体；2)将二氧化硅疏松体在100‑1600℃和0.01‑500Pa真空度下经脱水、脱气及玻璃化后，得到石英玻璃。
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