[发明专利]发光二极管晶片的点测方法有效

专利信息
申请号: 201210055190.8 申请日: 2012-03-06
公开(公告)号: CN102569565A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 赖余盟;李水清;蔡坤煌;章小飞 申请(专利权)人: 厦门市三安光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/66
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的点测方法,包括光学参数测试和电性参数测试,其特征在于:对光学参数分布离散的区域芯粒进行光电参数全测,对光学参数分布集中的区域芯粒只进行电性参数单测。在没有增设任何硬件成本的前提下,实现自动寻找和判别发光二极晶片光学参数集中性分布较好的区域,对其仅测试电性参数,节省光学参数测试的时间,测试速率显著提升,极大程度的提升了机台产能和降低了生产成本。
搜索关键词: 发光二极管 晶片 方法
【主权项】:
发光二极管晶片的点测方法,包括光学参数测试和电性参数测试,其特征在于:对光学参数分布离散的区域芯粒进行光电参数全测,对光学参数分布集中的区域芯粒只进行电性参数单测。
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