[发明专利]发光二极管晶片的点测方法有效
申请号: | 201210055190.8 | 申请日: | 2012-03-06 |
公开(公告)号: | CN102569565A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 赖余盟;李水清;蔡坤煌;章小飞 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/66 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管的点测方法,包括光学参数测试和电性参数测试,其特征在于:对光学参数分布离散的区域芯粒进行光电参数全测,对光学参数分布集中的区域芯粒只进行电性参数单测。在没有增设任何硬件成本的前提下,实现自动寻找和判别发光二极晶片光学参数集中性分布较好的区域,对其仅测试电性参数,节省光学参数测试的时间,测试速率显著提升,极大程度的提升了机台产能和降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 晶片 方法 | ||
【主权项】:
发光二极管晶片的点测方法,包括光学参数测试和电性参数测试,其特征在于:对光学参数分布离散的区域芯粒进行光电参数全测,对光学参数分布集中的区域芯粒只进行电性参数单测。
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