[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201210055428.7 | 申请日： | 2012-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN102681351A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | H·K·尼恩黑斯;M·A·W·崔帕斯;L·M·莱瓦西尔;简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;Y·J·G·范德维基沃尔;O·V·沃兹纳;F·J·J·詹森;D·M·H·菲利普斯;M·A·C·马兰达;O·加拉克季奥诺夫;L·J·A·凡鲍克霍文;N·坦凯特;M·兰詹;A·P·瑞吉普玛;K·巴尔;R·W·A·H·施密茨;A·L·C·勒鲁 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；管道，具有位于开口内的出口，所述管道配置成将气体传送至所述开口；和由控制系统控制的冷却设备，所述冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210055428.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
