[发明专利]化学混浴沉积系统及其化学混浴沉积方法无效
申请号: | 201210063714.8 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN103103504A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 李适维;王隆杰 | 申请(专利权)人: | 绿阳光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;H01L21/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学混浴沉积系统,用以在具有光电转换层的背电极基板上形成缓冲层及氧化锌窗口层,包括分别用来存放缓冲层化学溶液及窗口层化学溶液的第一及第二混浴槽。背电极基板浸泡于缓冲层化学溶液中以反应生成缓冲层在光电转换层上。背电极基板浸泡于窗口层化学溶液中以反应生成氧化锌窗口层在缓冲层上。第一与第二混浴槽为一连续式配置。本发明使用将背电极基板依序浸泡于第一混浴槽及第二混浴槽中以分别形成缓冲层及氧化锌窗口层在光电转换层上的方式,以降低太阳能电池在形成缓冲层与氧化锌窗口层上所需耗费的成本及制程时间。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种化学混浴沉积系统,其特征在于,所述化学混浴沉积系统用以在具有一光电转换层的至少一背电极基板上形成一缓冲层及一氧化锌窗口层,所述化学混浴沉积系统包括:一第一混浴槽,用来存放一缓冲层化学溶液,当所述背电极基板进入所述第一混浴槽以浸泡于所述缓冲层化学溶液中时,所述缓冲层化学溶液反应生成所述缓冲层在所述光电转换层上;及一第二混浴槽,用来存放一窗口层化学溶液,当所述背电极基板进入所述第二混浴槽以浸泡于所述窗口层化学溶液中时,所述窗口层化学溶液反应生成所述氧化锌窗口层在所述缓冲层上,所述第一混浴槽与所述第二混浴槽为一连续式配置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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