[发明专利]化学混浴沉积系统

摘要

本发明公开了一种化学混浴沉积系统，包括化学混浴槽、化学液纯化装置及添加装置。化学混浴槽用来存放缓冲层化学溶液，其阳离子及阴离子用以当背电极基板浸泡于其内时，反应生成缓冲层在背电极基板的光电转换层上。化学液纯化装置用来移除在阳离子及阴离子反应生成缓冲层后所剩余的阳离子以得到纯化后的溶液。添加装置用来根据纯化后的溶液的成分比例进行阳离子的补偿添加。本发明利用化学液纯化装置以对缓冲层化学溶液反应生成缓冲层后所剩余的阳离子进行纯化，以发挥化学溶液回收再利用的功效并同时达到确保后续缓冲层的形成质量的目的。

主权项

一种化学混浴沉积系统，其特征在于，所述化学混浴沉积系统用以在具有一光电转换层的至少一背电极基板上形成一缓冲层，所述缓冲层形成在所述光电转换层上，所述化学混浴沉积系统包括：一化学混浴槽，用来存放一缓冲层化学溶液，所述缓冲层化学溶液包括一阳离子及一阴离子，所述阳离子及所述阴离子用以当所述背电极基板进入所述化学混浴槽以浸泡在所述缓冲层化学溶液内时，反应生成所述缓冲层在所述光电转换层上；一化学液纯化装置，连通于所述化学混浴槽，用来移除在所述阳离子及所述阴离子反应生成所述缓冲层后所剩余的阳离子以得到一纯化后的溶液；及一添加装置，用来根据所述纯化后的溶液的一成分比例进行所述阳离子的补偿添加。