[发明专利]镀膜件及其制备方法有效
申请号: | 201210070120.X | 申请日: | 2012-03-16 |
公开(公告)号: | CN103302916A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 曹达华 | 申请(专利权)人: | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B15/00;C23C12/00;C23C12/02;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/18;C23C28/00 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种镀膜件,包括金属基体,该镀膜件还包括形成于该金属基体表层的渗碳-硅层、形成于该渗碳-硅层上的结合层以及形成于该结合层上的颜色层,该渗碳-硅层是通过对金属基体进行真空离子渗碳-硅处理而于金属基体表层渗入碳、硅元素而形成,该结合层由金属形成,该颜色层由金属元素与非金属元素组成。本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种镀膜件,包括金属基体,其特征在于:该镀膜件还包括形成于该金属基体表层的渗碳‑硅层、形成于该渗碳‑硅层上的结合层以及形成于该结合层上的颜色层,该渗碳‑硅层是通过对金属基体进行真空离子渗碳‑硅处理而于金属基体表层渗入碳、硅元素而形成,该结合层由金属形成,该颜色层由金属元素与非金属元素组成。
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