[发明专利]衬底处理装置和固体原料补充方法有效
| 申请号： | 201210071954.2 | 申请日： | 2012-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN102691041A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 谷山智志;小山刚记 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立国际电气;株式会社北泽SCT |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/448;C23C16/44;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种衬底处理装置和固体原料补充方法，衬底处理装置包括：处理室，能够收容衬底；以及原料供给系统，使固体原料升华而生成衬底处理用的气体原料，并向处理室供给该气体原料。原料供给系统包括：固体原料容器，收容固体原料；第1配管，连接于固体原料容器与处理室之间；以及第2配管，与固体原料容器连接，且第2配管具有用于安装保持补充用的固体原料的原料补充容器的安装部。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 装置 固体 原料 补充 方法 | ||
【主权项】：
一种衬底处理装置，包括：处理室，能够收容衬底；以及原料供给系统，使固体原料升华而生成上述衬底处理用的气体原料，并向上述处理室供给该气体原料，上述原料供给系统包括：固体原料容器，收容上述固体原料；第1配管，连接于上述固体原料容器与上述处理室之间；以及第2配管，与上述固体原料容器连接，且上述第2配管具有用于安装保持补充用的上述固体原料的原料补充容器的安装部。
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