[发明专利]光学膜的制造方法、偏振板和图像显示装置有效
| 申请号： | 201210078024.X | 申请日： | 2012-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN102736135A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 神野亨;神崎昌;金玉馨;金云基 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335;B05D7/24;B05D3/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光学膜的制造方法包括：涂布工序，其在基材膜上涂布含有活性能量线固化性树脂的涂布液，形成涂布层；第1固化工序，其向涂布层的与基材膜的输送方向正交的方向的两端部区域照射活性能量线；和第2固化工序，其在使铸型的表面压靠涂布层的表面的状态下，从基材膜侧向涂布层照射活性能量线。根据本发明，能够提供高品质、无缺陷并且以高生产率制造光学膜的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 制造 方法 偏振 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光学膜的制造方法，其包括：涂布工序，其在基材膜上涂布含有活性能量线固化性树脂的涂布液，形成涂布层；第1固化工序，其向所述涂布层的与所述基材膜的输送方向正交的方向的两端部区域照射活性能量线；和第2固化工序，其在使铸型的表面压靠所述涂布层的表面的状态下，从所述基材膜侧向所述涂布层照射活性能量线。
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