[发明专利]高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201210079120.6 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102611000A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 张建伟;宁永强;秦莉;刘云;曾玉刚;王立军 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/323
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 南小平
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,属于半导体激光器技术领域,为解决现有的垂直腔面发射半导体激光器光场在P型DBR一侧的高损耗、激光器的转换效率受到限制的问题,本发明提供高效率非对称光场分布的垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极、N型衬底、N型缓冲层、N型分段DBR、有源区、氧化限制层、P型分段DBR、P型盖层和P面电极;所述N型分段DBR在靠近有源区的前6-8对N型DBR的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR在靠近有源区的前6-8对P型DBR的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的高、低折射率材料对的折射率差。本发明电光转换效率高具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 高效率 对称 分布 垂直 发射 半导体激光器
【主权项】:
高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极(9)、N型衬底(1)、N型缓冲层(2)、N型分段DBR(3)、有源区(4)、氧化限制层(5)、P型分段DBR(6)、P型盖层(7)和P面电极(8);所述P面电极(8)放置在P型盖层(7)的顶面上且电连接到P型盖层(7),所述N面电极(9)位于N型衬底(1)的背面且电连接到N型衬底(1),所述有源区(4)位于N型分段DBR(3)与P型分段DBR(6)之间,有源区(4)内引入增益介质层(4a),其特征在于,所述N型分段DBR(3)和P型分段DBR(6)采用分段结构,N型分段DBR(3)的高、低折射率材料层交替周期性分布,在靠近有源区(4)的前六至八对N型DBR(3a)的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的N型DBR(3b)的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR(6)的高、低折射率材料层交替周期性分布,在靠近有源区(4)的前六至八对P型DBR(6a)的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的P型DBR(6b)的高、低折射率材料对的折射率差。
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