[发明专利]光扩散膜模版制备装置和光扩散膜模版的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210079682.0 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102540292A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 刘守;张向苏 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02B27/46
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 光扩散膜模版制备装置和光扩散膜模版的制备方法,涉及一种光扩散膜模版。光扩散膜模版制备装置设有激光器、空间滤波器、随机位相版、调制版和全息记录介质,激光器、空间滤波器、随机位相版、调制版和全息记录介质依次排列。制备时,采用与全息记录介质敏感波长一致的激光器;将空间滤波器放置在激光束运行前方,使细小的激光束扩大到所需面积;将随机位相版放置在扩大的激光束前方,把激光束转变为漫射光;将调制版放置在漫射光的运行光路上,对漫射光进一步调制,形成微小颗粒状激光散斑场;采用能形成浮雕状表面结构的全息记录介质,放置在激光散斑场内,经曝光和化学处理后在全息记录介质表面即制作出微小颗粒状结构,可作为光扩散膜模版。
搜索关键词: 扩散 模版 制备 装置 方法
【主权项】:
光扩散膜模版制备装置,其特征在于设有:激光器,用于为系统提供光源;空间滤波器,用于对激光器发出的光束进行扩束并滤波;随机位相版,用于将激光束转变为漫射光;调制版,与随机位相版配合,用于产生随机分布且大小适当的颗粒状激光散斑场;全息记录介质,用于记录激光散斑场,形成浮雕状表面结构;所述激光器、空间滤波器、随机位相版、调制版和全息记录介质依次排列。
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