[发明专利]一种席夫碱修饰铜电极的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210080994.3 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN102621203A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 刘峥;张小鸽;王苗苗 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: G01N27/30 分类号: G01N27/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西壮族*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种席夫碱修饰铜电极的制备方法。截取铜棒,用砂纸打磨,在6mol/LHNO3中浸泡10s,然后快速用蒸馏水冲洗,电极周围用石蜡密封,仅有底端和顶端,顶端用于固定电极,底端接触溶液.然后在50mL含0.0135g配体的1mo l/LNaOH中于-1.2~0.6V电位区间以50mV·s-1扫速扫描14圈,即制得邻氧乙酸苯甲醛缩牛磺酸席夫碱修饰铜电极。本发明的修饰电极制作方法简单,制备的电极对过氧化氢有较高的电催化还原活性,可应用于环境样品中过氧化氢的分析测定。
搜索关键词: 一种 席夫碱 修饰 电极 制备 方法
【主权项】:
一种席夫碱修饰铜电极的制备方法,其特征在于具体步骤为:截取铜棒,用砂纸打磨,在6mol/LHNO3中浸泡10秒,然后用蒸馏水冲洗,电极除底端和顶端外周围用石蜡密封,顶端用于固定电极,底端接触溶液;然后在50mL含0.0135g邻氧乙酸苯甲醛缩牛磺酸席夫碱配体的1mol/LNaOH中于‑1.2~0.6V电位区间以扫50mV·s‑1扫描14圈,即制得邻氧乙酸苯甲醛缩牛磺酸席夫碱修饰铜电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林理工大学,未经桂林理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210080994.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top