[发明专利]基于微光学阵列元件的二维位移测量装置有效
申请号: | 201210088617.4 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN102607428A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 卢振武;刘华;王尧;孙强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 基于微光学阵列元件的二维位移测量装置,涉及一种基于微光学元件的二维位移测量装置,解决现有二维位移测量中,需要两套独立测量系统,导致体积较大的问题,包括激光器、扩束镜、反射镜、二维参考微光学阵列元件、二维测量微光学阵列元件、聚焦透镜和二维面阵探测器;激光器发出的激光光束经扩束镜和反射镜后平行入射至二维参考微光学阵列元件,在所述二维参考微光学阵列元件的焦平面处会聚成点光源,点光源发出的光束经二维测量微光学阵列元件平行入射至聚焦透镜,经聚焦透镜出射的光束在二维面阵探测器上成像。本发明所述的装置在测量过程中测量准确方便,并减少了装置的体积。 | ||
搜索关键词: | 基于 微光 阵列 元件 二维 位移 测量 装置 | ||
【主权项】:
基于微光学阵列元件的二维位移测量装置,该装置包括激光器(1)、扩束镜(2)、反射镜(3)、二维参考微光学阵列元件(4)、二维测量微光学阵列元件(5)、聚焦透镜(7)和二维面阵探测器(8);其特征是,激光器(1)发出的激光光束经扩束镜(2)和反射镜(3)后平行入射至二维参考微光学阵列元件(4),在所述二维参考微光学阵列元件(4)的焦平面处会聚成点光源,点光源发出的光束经二维测量微光学阵列元件(5)平行入射至聚焦透镜(7),经聚焦透镜(7)出射的光束在二维面阵探测器(8)上成像。
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