[发明专利]一种具有1-3微米超宽带发光的含铋晶体及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210088940.1 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102586871A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 彭明营;曹人平;邱建荣 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C30B29/12 分类号: C30B29/12
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 杨晓松
地址: 510641 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种具有1-3微米超宽带发光的含铋晶体,含有Bi53+团簇离子的卤化物晶体,所述含铋晶体为Bi5(GaCl4)3、Bi5(AlCl4)3、Bi5(AsF6)3S2O4。本发明还公开了在无水无氧条件下采用熔体法制备上述含有Bi53+团簇离子的卤化物晶体的方法。与现有技术相比,本发明制备的具有1-3微米超宽带发光的含铋晶体具有覆盖300-1100nm区间的吸收,具有1000-3000nm的超宽带荧光,荧光寿命在微秒量级,只有一种类型的Bi53+发光中心,作为增益介质,应用在超宽带波长可调谐新型激光光源或超短脉冲激光等领域。
搜索关键词: 一种 具有 微米 宽带 发光 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有1‑3微米超宽带发光的含铋晶体,其特征在于,含有Bi53+团簇离子的卤化物晶体。
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