[发明专利]一种调焦调平信号处理方法有效
申请号: | 201210091294.4 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN103365099A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 李志丹;潘炼东;邬利挺 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种调焦调平信号处理方法,照明光源产生的照明光束投射到投影狭缝阵列上形成狭缝光束,狭缝光束投射到被测硅片上形成投影光束,经被测硅片反射后通过光学探测结构形成投影光斑,投影光斑入射到探测狭缝阵列上形成探测光斑,探测光斑入射到光电探测器上形成探测信号,光学探测结构包括偏置平板和扫描反射镜,扫描反射镜做简谐振动,该方法包括以下步骤,模数转换单元对探测信号进行模数转换后,结合所述扫描反射镜同步信号存储采样数据;获得采样数据中两个相邻波峰的时间间隔;判断被测硅片是否进入精测范围,如果进入精测范围,根据时间间隔计算出被测硅片的离焦量z;如果没有进入精测范围,重复上述步骤。该方法规避了因硅片面形貌差异导致的测量误差,提升系统的测量精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 调焦 平信 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种调焦调平信号处理方法,照明光源产生的照明光束投射到投影狭缝阵列上形成狭缝光束,所述狭缝光束投射到被测硅片上形成投影光束,经被测硅片反射后通过光学探测结构形成投影光斑,所述投影光斑入射到探测狭缝阵列上形成探测光斑,所述探测光斑入射到光电探测器上形成探测信号,所述光学探测结构包括偏置平板和扫描反射镜,所述扫描反射镜做简谐振动,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤1,模数转换单元对所述探测信号进行模数转换后,结合所述扫描反射镜同步信号存储采样数据;步骤2,获得所述采样数据中两个相邻波峰的时间间隔;步骤3,判断所述被测硅片是否进入精测范围,如果进入精测范围,根据所述时间间隔计算出所述被测硅片的离焦量z;如果没有进入精测范围,重复步骤2、3。
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